- ASML攤牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片時(shí)，才要換EUV光刻機(jī)
- 華為很清醒：別想3nm、5nm，目前7nm工藝對(duì)中國(guó)芯最重要
- 華為不吹牛：沒有3nm、5nm芯片，能解決7nm就非常好了
- 穩(wěn)了，國(guó)內(nèi)193nm的DUV光刻機(jī)，也能制造5nm芯片
- 華為Pura70證明：我們7nm已沒問題，接下來(lái)是5nm、3nm
- 今年5nm，2026年2nm，EUV光刻機(jī)攪局者，終于要量產(chǎn)了
- 臺(tái)積電，三星5nm、3nm芯片，是制程騙局？事情沒這么簡(jiǎn)單
- 未來(lái)3-5年，中國(guó)大陸不缺浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，5nm芯片也不用愁
- 500億晶體管，5nm工藝，中國(guó)車企推出全球領(lǐng)先的智能駕駛芯片
- 三大芯片巨頭競(jìng)技2nm，我們?cè)跊_刺5nm，落后不多了，僅2代
