加速12英寸大硅片國(guó)產(chǎn)化 西安奕斯偉硅產(chǎn)業(yè)基地?cái)U(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目開(kāi)工

6月14日，西安奕斯偉硅產(chǎn)業(yè)基地?cái)U(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目于西安市高新區(qū)開(kāi)工，奕斯偉硅產(chǎn)業(yè)基地目前擁有一座50萬(wàn)片/月產(chǎn)能的12英寸硅片工廠，已于2020年7月投產(chǎn)，為多家海內(nèi)外晶圓廠提供拋光片和外延片。本次擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目投產(chǎn)后將進(jìn)一步提升我國(guó)半導(dǎo)體硅產(chǎn)業(yè)技術(shù)實(shí)力，強(qiáng)化集成電路產(chǎn)業(yè)鏈綜合競(jìng)爭(zhēng)力。

近兩年來(lái)，受多重因素影響，集成電路產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能緊俏，作為上游原材料的大硅片需求不斷攀升。然而，我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵原材料尚處于發(fā)展初期，硅片產(chǎn)能主要集中于小尺寸，大尺寸自給率低，約95%以上的12英寸主流硅片正片仍依靠進(jìn)口，國(guó)內(nèi)產(chǎn)能存在巨大缺口。尺寸越大的硅片，其制造難度越高，對(duì)原材料純度、硅片平整度、表面顆粒數(shù)和金屬殘留量等技術(shù)指標(biāo)的要求就越苛刻。