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據日經新聞報道,日本將與美國方面合作,啟動該國本土2納米先進制程研發、制造設施建設。
日經報道稱,可能的合作方式將是美日雙方企業合資成立新公司,或由日本企業獨自承擔基礎設施建設,經產省將予以補貼。
根據雙方意向,聯合研發最早將在今年夏天啟動,2025-2027年間建成研發與產業化基地。
目前,IBM與英特爾均在開展2納米工藝研發,此前日本經產大臣曾到訪IBM先進工藝研發設施。
日經分析稱,日本在半導體設備材料領域擁有強大實力,與美國芯片廠商合作可望優勢互補,早日突破先進制程技術。
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