又白沸騰了？清華大學EUV光刻廠，其實是個假消息

前幾天，很多自媒體都曝了一個相同的好消息，說是清華的EUV光刻機工廠，將落地了。

與ASML的小型化EUV光刻機不同，這個EUV光刻機，采用的是SSMB-EUV方案，功率是ASML EUV光刻機的40倍。

其原理是采用大的加速器光源，用分光器來帶動幾十臺光刻機，相當于建了一個光刻機工廠，然后同時生產出了幾十臺光刻機一樣，用來滿足很多客戶同時作業需求，集群化。

于是全網沸騰了，因為一直以來，大家都認為EUV光刻機的突破，需要極紫外線光源、物鏡系統、工作臺等等的突破，非一朝一夕之功。

而一旦國產EUV光刻機有了突破，那么美國就再也卡不住我們的脖子了。

而如今，國產EUV光刻機換道超車，用分光器+SSMB-EUV方案，打破了美國的技術封鎖，走出了一條有中國特色的EUV光刻機之路。

那么問題來了，這真的是國產EUV光刻機么？實際上還真不是的。

SSMB到底是什么玩意？它的英文全名是：steady-state micro-bunching，是Steady-state micro-bunching accelerator light source的一部分，翻譯過來是：穩態微聚束加速器光源。

SSMB概念由斯坦福大學教授、清華大學杰出訪問教授趙午與其博士生Daniel Ratner于2010年提出。

清華大華是在2017年，由唐傳祥與趙午發起該項實驗，并成立SSMB研究團隊的，而SSMB也分為三個階段，分別是加速一圈；加速千圈；以及進入真正的SSMB，保持穩定。

唐傳詳教授也曾對媒體表示：“SSMB光源的潛在應用之一是作為未來EUV光刻機的光源”。

這就很容量理解了，而就算SSMB穩定后，也只是產生出了穩定的EUV光源，有可能會成為EUV光刻機的光源，而一臺EUV光刻機，需要的不僅僅是光源，還需要操縱光源，進行光刻。

而ASML的EUV光刻機中，產生穩定的EUV光源，也只是其中的第一步，還有后面的好多步驟，所以就算有了EUV光源，也僅僅只是實現了第一步而已。

所以就算清華大學，真的有了SSMB-EUV光源，也只是解決了EUV光源問題，還要考慮物鏡系統、工作臺，這些是缺一不可的。

事實上，而按照業內人士人說法，清華大學的SSMB至少在目前并不是用來做EUV光刻機的，是用來研究高能粒子對撞之類研究的，遠期目標可能是用其作為EUV光源，且目前還沒有達到穩定產生EUV的結果。

當然，我并不是說清華大學的這個SSMB-EUV方案有什么不對，只是說它至少在目前并不是EUV光刻機，就算全面成功了，也只是其中的一個小環節，還有更多的環節，等著我們。

所以，大家先別沸騰，打好基礎，扎實前行才硬道理，換道超車，沒有這么容易換的，你覺得呢？