6臺光刻機即將交付,美國扶持Intel的目的暴露,臺積電后悔莫及
外媒報道指ASML今年量產的10臺2納米光刻機將有6臺優先交付給Intel,這意味著臺積電和三星將只能爭奪剩下的4臺,并且這4臺光刻機的量產時間也較晚,將導致它們在2納米工藝研發方面落后于Intel。
今天了曾長達20多年引領全球芯片制造工藝,也正是由于它擁有先進的工藝,導致AMD在PC處理器市場競爭中落敗,而始終難以真正實現對Intel的超越。
不過自從2014年量產14納米之后,Intel的創新步伐就開始放緩,10納米工藝延遲了3年時間,7納米工藝也延遲了2年時間,而臺積電、三星則保持了1-2年量產一代先進工藝,到如今臺積電和三星已量產了3納米工藝,Intel的最先進工藝則停留在7納米。
先進工藝發展到3納米已面臨新的瓶頸,三星激進采用GAA技術導致芯片工藝良率低至兩成以下,臺積電保守一些采用了原來的FinFET技術,但是良率也只有55%左右,但是卻導致生產的A17處理器性能僅提升一成還存在功耗過高的問題。
導致3納米工藝存在弊病,一方面在于先進工藝逐漸接近1納米的極限,另一方面則是現有的第一代EUV光刻機并不適合生產3納米工藝,如此情況下,Intel、臺積電和三星都開始爭奪ASML第二代EUV光刻機,也就是2納米光刻機。
ASML雖然是全球最大的光刻機制造企業,并且也是唯一可以生產EUV光刻機的企業,不過EUV光刻技術卻是來自美國,當初美國成立EUV聯盟研發成功EUV光刻技術,繞開了日本的光刻機企業,而將該項技術交給ASML,由此ASML徹底奠定光刻機老大的地位。
如此情況下,ASML就必須聽從美國的要求,而如今ASML即將量產2納米光刻機,卻將其中的六成優先交給Intel,中間有沒有美國的影響不言自明,這也說明了美國還是更相信自己的本土企業,對三星和臺積電不放心。
對比之下,此前三星和臺積電可以說是對美國掏心掏肺,美國要求上交機密數據,他們交了;美國要求他們赴美設廠,他們也做了,然而他們言聽計從的結果卻是后來美國屢屢違背承諾。
美國承諾只要臺積電和三星赴美設廠,那么就給予豐厚的芯片補貼,然而在臺積電和三星正式赴美設廠后,美國卻分別只給予10%、13%的芯片補貼,隨后提出的芯片細則又要求它們共享芯片技術并分享利潤,核心技術可是企業的命根子,如此也就是變相要求臺積電和三星舍棄這部分有限的芯片補貼。
到如今美國在2納米光刻機上作梗,而Intel則優先得到最多的2納米光刻機,一切都顯示出美國的心思就是扶持Intel再度取得芯片制造技術領先優勢,只有作為美國本土企業的Intel才能讓美國放心,這是有先例的,當年通用電氣和阿爾斯通在電氣市場競爭失敗,阿爾斯通隨即發生了諸多事情,最終阿爾斯通不得不低價將電氣業務賣給通用。
臺積電此刻恐怕感嘆,“我本將心照明月,無奈明月照溝渠”,在3納米工藝上已受挫,如果再在2納米工藝研發方面落后,那么他的輝煌或許將就此終結,因為Intel不僅要重奪先進工藝,還大舉搶占芯片代工市場,Intel已首次躋身全球芯片代工TOP10,搶走了臺積電的部分訂單,Intel未來或許會成為臺積電的巨大威脅。
