為對抗三星、SK 海力士,傳日本鎧俠將砸1182億新建3D NAND Flash廠
2021-05-13
來源:中電網
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據日媒工業新聞報導,為了應對三星、SK 海力士等對手,以及云服務、5G帶來的NAND Flash需求激增,傳聞鎧俠(Kioxia,前東芝半導體)計劃在日本巖手縣北上市工廠興建3D NAND Flash新廠房,總投資額預估高達2兆日元(約合人民幣1182億元)。
報導指出,鎧俠計劃在北上工廠新設的第二廠房K2大小預估將達2020上半年開始進行生產的第一廠房K1的2倍。鎧俠目前已對鄰近K1東側及北側約15萬平方公尺的土地進行整地工程,且也正協商有意取得鄰近K1東南側的土地,K2預計2022年春天動工興建,2023年春天左右完工,數個月后開始生產3D NAND Flash。
據報導,K2所需的生產設備主要將從四日市工廠轉移過來,因此總額2兆日元的投資,除了含K2廠房、附帶設施,也含設備補充四日市工廠的費用。對K2生產設備投資照舊,會和合作伙伴西部數據(Western Digital,WD)共同負擔。
報導指出,因產品市況尚未恢復,因此鎧俠IPO(首次公開發行)計劃將較原先規劃推延,最快將等到2021年夏天以后。
