ASML要慌：EUV光刻機(jī)新光源出現(xiàn)，成本降50%，功耗降80%

目前全球僅有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，而制造7nm以下芯片，又必須使用到EUV光刻機(jī)，所以ASML相當(dāng)于卡住了全球先進(jìn)晶圓廠的脖子。

于是ASML推出的1.5億歐元的標(biāo)準(zhǔn)EUV光刻機(jī)，臺積電等廠商不得不買，后來再推出3.5億歐元的High NA EUV光刻機(jī)，intel們繼續(xù)買。

靠著這樣不斷升級EUV光刻機(jī)，ASML賺的盆滿缽滿。

而為了壟斷EUV光刻機(jī)生意，ASML將EUV光刻系統(tǒng)上的眾多供應(yīng)鏈，捆綁在了自己戰(zhàn)車，收購的收購，投資的投資，反正讓其它競爭對手，沒有合作的機(jī)會。

比如蔡司，比如TRUMPF、比如Cymer等，均綁上了ASML戰(zhàn)車。

可以說，其它企業(yè)，如果想走ASML的路線來造EUV光刻機(jī)，基本沒戲，除非換一條新道路，才有可能性。

而近日，這條新道路出現(xiàn)了，EUV光刻機(jī)中，最重要的EUV光源部分，有了新的解決方案，且新方案，比舊方案，成本更低，功率更高，技術(shù)更為先進(jìn)。

舊方案中，產(chǎn)生EUV光線，是非常麻煩的，方案叫做”激光等離子體EUV光源（EUV-LPP）“，是用二氧化碳激光器，轟擊錫金屬液滴，將這些錫珠蒸發(fā)成等離子體，放射出極紫外線（EUV）了，再通過透鏡，對EUV進(jìn)行收集。

這個(gè)過程非常復(fù)雜，成本也非常高，同時(shí)功率轉(zhuǎn)化率非常低，大約只有3-5%的轉(zhuǎn)化率。所以現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)都是電老虎，就是因?yàn)楣β兽D(zhuǎn)化率非常低，最終能夠使用的功率也低。

而新的方案叫做自由電子激光器（FEL），用這種方案，同樣能夠生產(chǎn)EUV光源，讓來自電子加速器的電子束在波蕩器中發(fā)光，然后再放大FEL光，得到EUV--FEL光源。

與舊方案相比，一旦成本低多了，不需要錫球，再用二氧化碳激光器來激發(fā)，同時(shí)功率轉(zhuǎn)化損失也不會非常大。

按照說法，如果采用EUV FEL方案來制造光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)的制造成本降了很多，可能只有原先的一半都不到。

更重要的是，因?yàn)楣β兽D(zhuǎn)化高多了，不像以前只有3-5%，現(xiàn)在可以高達(dá)30%以上，后續(xù)EUV光刻機(jī)也不會成為電老虎，耗電量大大降低，變?yōu)樵瓉淼奈宸种唬加锌赡堋?/span>

不僅如此，EUV-FEL還可以升級為BEUV-FEL，產(chǎn)生更短的波長（6.6-6.7 nm），比EUV的13.5nm波長更知，這樣分辨率更高，能制造更先進(jìn)的芯片。

所以很多科學(xué)家表示，EUV-FEL光束明顯更適合作為EUV光刻機(jī)的光源。

目前美國、日本已經(jīng)有機(jī)構(gòu)在研究這種EUV-FEL技術(shù)，按照說法，雖然短時(shí)間之內(nèi)，還無法利用這個(gè)技術(shù)制造出EUV光刻機(jī)，但相信也不會太久了，也許三年、五年就能夠制造出來了。

不知道ASML怎么看？一旦這種EUV光刻機(jī)面市，那么對整個(gè)EUV光刻機(jī)生態(tài)，將面臨大洗牌，那么全球半導(dǎo)體格局都會發(fā)生巨大變化，不知道ASML慌不慌？