三星宣布2022年底前量產(chǎn)8層TSV技術(shù)堆疊的DDR5芯片,傳輸速度高達(dá)7.2Gbps
2021-08-27
來源:中電網(wǎng)
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據(jù)韓國媒體《THEELEC》報導(dǎo)指出,三星電子在23 日舉行的在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)會議Hotchips 33 上宣布,三星電子將于2022 年底開始量產(chǎn)8 層堆疊的DDR5內(nèi)存芯片。
據(jù)介紹,該8層堆疊的DDR5內(nèi)存芯片將使用其矽通孔(TSV) 技術(shù),將512GB DDR5 內(nèi)存模組進一步堆疊起來。而目前該公司已經(jīng)生產(chǎn)出采用TSV 技術(shù)4 層堆疊的DDDR4內(nèi)存芯片,整個芯片的厚度僅1.2cm。
報導(dǎo)引用三星的說法表示,盡管可堆疊到8 層DDR5 記憶體模組,但整個DDR5內(nèi)存芯片仍將比1cm更薄。而且與DDR4內(nèi)存芯片相較,新的DDR5內(nèi)存芯片還將具有更好的散熱功能,而這要歸功于新型材料的應(yīng)用所導(dǎo)致。另外,三星還在模組中也采用自己開發(fā)的新款電源管理IC 來降低噪音,并使其有較優(yōu)秀的功耗性能。
報導(dǎo)進一步指出,三星新的8 層堆疊DDR5內(nèi)存將具有7.2Gbps 的資料傳輸速度。三星還應(yīng)用了一種稱為決策反饋均衡器的技術(shù),以進一步提升數(shù)據(jù)傳輸速率,并保信號的穩(wěn)定狀況。另外,三星還強調(diào),新的DDR5內(nèi)存模組將以數(shù)據(jù)中心的服務(wù)器市場需求為主要供應(yīng)對象。
