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臺灣地區半導體企業加緊投資EUV光刻技術,進一步擴大競爭優勢

2021-09-06 來源:科技新報
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關鍵詞: 半導體 投資 EUV光刻

相較韓國半導體產業最早開始采用EUV光刻技術,相關產業存儲器與晶圓代工時程相對落后。但韓國媒體《Business Korea》報導,近期中國臺灣地區半導體企業加緊投資EUV光刻技術,進一步擴大競爭優勢。


目前投資中國臺灣地區最大外商的美商存儲器大廠美光科技,除決定今年底美國總部安裝ASML最新曝光設備NXE:3600D,美光還計劃在臺中DRAM工廠安裝相同EUV光刻設備。代表美光科技將在中國臺灣地區生產第一顆EUV技術DRAM,并持續增加投資。


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除了美光科技積極部署EUV光刻技術,全球DRAM產業排名第四大的南亞科技也于4月宣布,投資3000億元新臺幣在新北市興建含EUV光刻設備的DRAM產線,預計2024年量產營運。


晶圓代工龍頭臺積電的EUV光刻設備產業影響力也有增加。今年第二季起,采用EUV光刻設備的7納米及更先進制程技術占公司總營收49%,正從曝光設備廠商ASML采購更多EUV光刻設備,增加研發投入。包括臺積電自行生產EUV光罩,以提升良率和制程效率。


韓國三星是全球首家采用EUV光刻技術的半導體企業,并在2019年首次量產,如今大規模發展EUV技術的還加上美光科技、臺積電等中國臺灣地區半導體企業。韓國市場專家指出,基礎設施持續擴張,預計為中國臺灣地區半導體產業帶來更強大的競爭優勢。



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